第502章 芯片技术的新瓶颈

备研究开始承担起来几代光刻机的研究任务。

从最初的接触式光刻机开始，到发射式光刻机的研究，方光圻这一生才走了一半多一点，他们就已经走到了这个星球光学设备研究的巅峰。

然而这一切都是靠着任重直接开挂，将设备最为核心的设计问题拿出来后，他们按照这些设计努力去实现。

现在走到了极致状态后，曾经具有的一些短板就体现出来了。

虽然说光刻机光学镜头的制造原理并不复杂，但要做出超高精密度的光刻镜头，在技术和工艺两方面均有非常大的难度。在技术方面，大数值孔径（na）的技术难度非常高，需要基于双高斯结构设计组合出20枚左右的镜片，还要做到分摊球差、平衡场曲、抵消畸变。此外，为保障晶圆图案的质量，光刻机中每一块透镜的位置误差都必须小于1nm，同时还要能尽量消除光损失产生的热量。

在工艺方面，光刻机所要求的镜面光洁度非常高，需要采用精度最高的打磨机和最细的镜头磨料，这些除了在材料方面要求外，还要有技术极其高超的老师傅把关才行，因为先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，要求高纯度透光以及高抛光。

而在这方面，黎明光学研究技术中心最强的技术师傅就是屠教授，但是在三德子的蔡司，屠教授当初只能算一个普通的加工技术人员，距离公司顶级大师傅还有很长一段距离，何况有些关键技术这些顶尖技术人员并不会传授。

“屠教授，我们要想快速达到设计指标，按照你的想法，我们是否需要同蔡司这样的光学巨头合作，让他们按照我们的要求设计制作这套光学物镜系统？”方光圻教授沉思一会儿后问道。

屠教授有些秃然的苦笑道，“目前恐怕只能如此了。”

方光圻点了点头，下定了决心。

任重对于方光圻的国际合作请求毫不迟疑进行了批准。

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